Haberler

Termoset Akrilik Yapıştırıcı için Referans Alev Geciktirici Formül

Termoset Akrilik Yapıştırıcı için Referans Alev Geciktirici Formül

Termoset akrilik yapıştırıcılar için UL94 V0 alev geciktirici gereksinimlerini karşılamak amacıyla, mevcut alev geciktiricilerin özellikleri ve termoset sistemlerin özgüllükleri göz önünde bulundurularak, aşağıdaki optimize edilmiş formülasyon ve temel analiz önerilmektedir:


I. Formülasyon Tasarım İlkeleri ve Termoset Sistem Gereksinimleri

  1. Kürleme sıcaklığına uygun olmalıdır (genellikle 120–180°C)
  2. Alev geciktiriciler yüksek sıcaklıkta işleme dayanıklı olmalıdır (ayrışma arızasını önlemelidir)
  3. Yüksek çapraz bağ yoğunluklu sistemlerde dispersiyon kararlılığını sağlayın
  4. Kürleme sonrası mekanik mukavemet ve alev geciktiricilik verimliliğini dengeleyin

II. Sinerjik Alev Geciktirici Sistem Tasarımı

Alev Geciktirici Fonksiyonlar ve Termoset Uyumluluğu

Alev Geciktirici Birincil Rol Termoset Uyumluluğu Önerilen Yükleme
Ultra ince ATH Ana FR: Endotermik dehidratasyon, gaz fazı seyreltme Yüzey modifikasyonu gerektirir (anti-aglomerasyon) ≤%35 (aşırı yükleme çapraz bağlanmayı azaltır)
Alüminyum hipofosfit Sinerjist: Kömür katalizörü, radikal temizleyici (PO·) Ayrışma sıcaklığı >300°C, kürlenmeye uygun %8–12
Çinko borat Kömürleşmeyi arttırıcı: Camsı bir bariyer oluşturur, dumanı azaltır ATH (Al-BO char) ile sinerji oluşturur %5–8
MCA (Melamin siyanürat) Gaz fazı FR: NH₃'yi serbest bırakır, yanmayı engeller Ayrışma sıcaklığı 250–300°C (kürlenme sıcaklığı <250°C) %3–5

III. Önerilen Formülasyon (% Ağırlık)

Bileşen İşleme Yönergeleri

Bileşen Oran Anahtar İşleme Notları
Termoset akrilik reçine %45–50 Yüksek dolgu yüklemesi için düşük viskoziteli tip (örneğin, epoksi akrilat)
Yüzey modifiye edilmiş ATH (D50 <5µm) %25–30 KH-550 silan ile ön işlemden geçirilmiştir
Alüminyum hipofosfit %10–12 ATH ile önceden karıştırılmış, partiler halinde eklenmiştir
Çinko borat %6–8 MCA ile eklendi; yüksek kesme bozunmasından kaçının
MCA %4–5 Geç aşama düşük hızlı karıştırma (<250°C)
Dispersan (BYK-2152 + PE mum) %1,5–2 Düzgün dolgu dağılımını sağlar
Bağlayıcı madde (KH-550) 1% ATH/hipofosfit üzerinde önceden işlenmiş
Sertleştirici madde (BPO) %1–2 Hızlı kürleme için düşük sıcaklık aktivatörü
Çökme önleyici madde (Aerosil R202) %0,5 Tiksotropik anti-sedimentasyon

IV. Kritik Proses Kontrolleri

1. Dağılım Süreci

  • Ön işlem: ATH ve hipofosfit %5 KH-550/etanol solüsyonuna batırıldı (2 saat, 80°C kurutma)
  • Karıştırma sırası:
    • Reçine + dağıtıcı → Düşük hızlı karıştırma → Modifiye ATH/hipofosfit ekleyin → Yüksek hızlı dispersiyon (2500 rpm, 20 dk) → Çinko borat/MCA ekleyin → Düşük hızlı karıştırma (MCA bozunmasını önleyin)
  • Ekipman: Planet mikser (vakumlu gaz giderme) veya üç silindirli değirmen (ultra ince tozlar için)

2. Kürleme Optimizasyonu

  • Kademeli kürleme: 80°C/1 saat (ön jel) → 140°C/2 saat (kürleme sonrası, MCA ayrışmasını önleyin)
  • Basınç kontrolü: Dolgunun çökmesini önlemek için 0,5–1 MPa

3. Sinerjik Mekanizmalar

  • ATH + Hipofosfit: Radikalleri temizlerken AlPO₄ ile güçlendirilmiş kömür oluşturur (PO·)
  • Çinko borat + MCA: Gaz-katı çift bariyer (NH₃ seyreltme + erimiş camsı tabaka)

V. Performans Ayarlama Stratejileri

Yaygın Sorunlar ve Çözümleri

Sorun Ana neden Çözüm
Damlayan ateşleme Düşük erime viskozitesi MCA'yı %5'e + hipofosfiti %12'ye çıkarın veya %0,5 PTFE mikro tozu ekleyin
Kürlenme sonrası kırılganlık Aşırı ATH yüklemesi ATH'yi %25 + %5 nano-CaCO₃'ye düşürün (sertleştirme)
Depolama sedimantasyonu Zayıf tiksotropi Silika oranını %0,8'e çıkarın veya BYK-410'a geçin
Niyet Mektubu <%28 Yetersiz gaz fazı FR %2 kaplanmış kırmızı fosfor veya %1 nano-BN ekleyin

VI. Doğrulama Metrikleri

  1. UL94 V0: 3,2 mm numuneler, toplam alev süresi <50 s (pamuk tutuşması yok)
  2. LOI ≥%30 (güvenlik marjı)
  3. TGA kalıntısı >%25 (800°C, N₂)
  4. Mekanik denge: Çekme dayanımı >8 MPa, kesme dayanımı >6 MPa

Önemli Çıkarımlar

  • Mekanik bütünlüğünü koruyarak V0 derecesine ulaşır.
  • Ölçeklemeden önce küçük ölçekli denemeler (50 g) önerilir.
  • Daha yüksek performans için: %2-3 oranında DOPO türevleri (örneğin fosfafenantren) eklenebilir.

Bu formülasyon, işlenebilirliği ve son kullanım performansını optimize ederken, sıkı alev geciktirici standartlarına uyumu garanti eder.


Gönderi zamanı: 01-07-2025